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CVD专用进样器

文字:[大][中][小] 2019-9-6  浏览次数:7327

CVD专用进样器

 

  CVD专用进样器是专为CVD管式炉设计的进样器,主要用于化学气相沉积(CVD)工艺等,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的渡膜技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料等。设备可以把两种或两种以上的液体,经过最新设计的CVD专用进样器自动转变为气态原材料进入到炉管内,经过相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上,可以沉积多种材料多层(液体—气体—固体)。

  CVD管式炉设备有单管、双管、卧式、立式、单温区、双温区、三温区、多温区,主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于产品的预烧、烧结、渡膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等,设备的控制系统采用原装进口产品,具有安全可靠、操作简单、控温精度高(专家PID控制)、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可通气氛、抽真空等特点。

  设备控制系统主要元件采用原装进口产品,温度控制采用专家PID参数控制方式,保温材料采用进口或国内最先进的轻质材料,具有安全可靠、自动化控制程度高、操作简单、节能、温度均匀性好、升温速度快、外型美观等特点,设备售后“保修一年,终身服务”。

 
 
 

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